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不銹鋼蝕刻工藝和特點(diǎn)
不銹鋼蝕刻原理
也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。
不銹鋼蝕刻工藝流程
曝光法：裁切-清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK
網(wǎng)印法：開料→清洗→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→OK
特點(diǎn)：
成本低、可蝕刻幾乎所有的金屬、對(duì)材料硬度無(wú)限制、材料表面無(wú)刮花、無(wú)毛刺、設(shè)計(jì)改變靈活、快速、簡(jiǎn)單、高效；制程耗時(shí)48小時(shí)、材料厚度對(duì)公差的影響+/-10%，產(chǎn)片包裝轉(zhuǎn)移方便。
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